赤外線単結晶育成装置(シャフトシール：O-Ringタイプ)

  四個の楕円鏡を用いている為、均質に原料を融解し、長時間の安定した条件下で単結晶育成を継続する事により、高品質単結晶を容易に作成可能にしたFZ法(Floarting Zone method)単結晶育成装置シリーズです。 パソコンを用いた遠隔操作が可能で再現性にも優れ、複雑な組成の単結晶育成において圧倒的な優位性を発揮します。

FZ-T-10000-H-VIII-VPO-PC
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(1) 四個の楕円鏡を用いた均質な加熱を実現
(2) 材料に合わせた最適なランプの選択
ハロゲンランプ(卓上型、標準型、ハイパワー型に使用)
ハロゲンランプは、150Wから最大1500Wランプまで豊富に用意されています。
低融点物質から高融点物質まで試料に合わせて最適なランプを選択して安定な溶融域を実現できます。
キセノンランプ(3kW出力）
（超高温型に使用）
(3) 高真空に排気後、最高0.95MPaまでの高圧雰囲気下でのスムーズな育成
6.7 x 10-3Paまでの高真空に排気後、0.95MPaまでの高圧雰囲気下で長時間のスムースな育成を可能にする特殊シール方式を採用。
(4) パソコンを用いた遠隔操作とスムースな操作環境を実現

操作画面
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FZ-T-2000-H
省スペース型		 FZ-T-4000-H
標準型 		FZ-T-10000-H
ハイパワー型		 FZ-T-12000-X
超高温型