株式会社クリスタルシステムは、赤外線単結晶育成装置のトップシェア企業です。
”クリスタル(単結晶)”は分子が基本通りに配列しているため、物性研究、光通信、コンピュータなどあらゆる先端技術を支える基盤材料です。弊社は原料棒に赤外線を照射して融解し、浮遊帯域溶融法(Floating Zone method - FZ法)によって高品質クリスタルを製造する他社に類のない四楕円鏡を使用した単結晶製造装置を開発し、 世界市場の70%を超える圧倒的な占有率を誇るトップ企業です。これからもお客様の多様なニーズに合わせて、 常に時代を先取りした製品を提供してまいります。 |
トピックス
2025年02月 |
2025年3月14日(金)~3月17日(月)
東京理科大学 野田キャンパス 森戸記念体育館
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2024年10月 |
2024年11月18日(月)~11月20日(水)
工学院大学 新宿キャンパス
<終了いたしました。ご来場頂きありがとうございました。>
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2024年9月 |
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2024年8月 |
近赤外から中赤外の波長領域において高い透過率を示すYIG(Y3Fe5O12)単結晶の販売を開始致しました。 |
2017年10月 |
「平成28年度山梨県産業振興事業費補助金」を受けて、産業技術総合研究所と山梨大学との共同研究により、15MPaまで対応可能な高圧型レーザFZ単結晶育成装置を開発しました。 |
2016年02月 |
従来手動にて行っていた照射角度の調整を結晶育成中に自動で調整できる機構を付加したLDFZ装置を開発し販売を開始致しました。
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2015年12月 |
「次世代材料開発用高圧型半導体レーザ加熱赤外線溶融装置の開発」を産業技術総合研究所と共同で研究を行う事となりました。
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2015年02月 |
平成23年に販売開始したモデルに対し、よりハイパワー(1KW)のレーザ単結晶育成装置を開発、国内外のお客様への製造・販売を開始しました。
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