赤外線単結晶製造装置(シャフトシール:磁性流体タイプ)

  標準型である赤外線単結晶製造装置(FZ法-Floating Zone Method)のシャフトシール部に磁性流体シールを採用し、高純度雰囲気を高圧条件下まで連続して維持できる画期的な装置で、わずかな残存ガスおよび少しの漏れも許されない金属材料の単結晶育成に最適です。


FZ-T-12000-X-VII-VPM-MII-PC
※写真をクッリクすると拡大
(1) 四個の楕円鏡を用いた均質な加熱を実現
(2) 磁性流体シールを採用し、長時間の安定した高品質雰囲気を実現
(3) 磁性流体シールの保護機構と高圧型ベローズを採用
10-5torrまでの高真空に排気後、そのまま最高0.95MPaまでの任意の高圧条件下で連続して安定した単結晶育成を可能にしております。
(4) パソコンを用いた遠隔操作とスムースな操作環境を実現

Operation Screen

■ 製品ラインアップ&カタログダウンロードサービス
ご利用条件
各製品のカタログ(英文)を閲覧・印刷するためにはAdobe Readerが必要となります。ダウンロードが必要な方は、
下記のAdobeアイコンをクリックしてダウンロード作業を行ってください。
その他、価格や製品に関するご質問、またカタログ(和文)ご希望の方はメールにてお問い合わせ下さい。

また、以下のご利用規約を読み、同意した上でご利用ください。
本サービスでご提供するカタログの著作権を含む一切の権利は株式会社クリスタルシステムに帰属しています。
権利の許諾を得ずに、内容の全部または一部を複製、改変することは、著作権法上禁止されております。
ただし、お客様が営利目的以外における個人利用を目的のみ、複製及び印刷が可能です。
カタログ内容は、予告なく変更する場合がございます。あらかじめご了承ください。
FZ-T-4000-H-VII
-VPM-MII-PC
磁性流体タイプ
FZ-T-10000-H-VII
-VPM-MII-PC
磁性流体タイプハイパワー
FZ-T-12000-X-VII
-VPM-MII-PC
磁性流体タイプ